nazov
Shiseido Shiseido The Skincare Moisture Relaxing Mask
Do obchodu

Maska na tvár Shiseido The Skincare Moisture Relaxing Mask

Produkt zatiaľ nikto neohodnotil.
Buďte prvý.

Do obchodu

Základný prehľad

  • Bez alkoholu

    Bez alkoholuNeobsahuje potenciálne iritujúci, nemastný alkohol

    ÁNO
  • Bez sulfátov

    Bez sulfátovNeobsahuje potenciálne škodlivé sulfáty

    ÁNO
  • Bez parabénov

    Bez parabénovNeobsahuje potenciálne škodlivé parabény

    NIE
  • Bez silikónov

    Bez silikónovNeobsahuje ťažko zmývateľné silikóny

    NIE
  • Bez parfumácie a esenc. olejov

    Bez parfumácie a esenc. olejovNeobsahuje potenciálne iritujúcu parfumáciu

    NIE
  • Bez lepku

    Bez lepkuNeobsahuje lepok

    ÁNO
  • Lokálna značka

    Lokálna značkaSlovenský alebo český produkt

    NIE
  • Cruelty-free

    Cruelty-free Netestované na zvieratách

    NIE

Zloženie (INCI)

Shiseido The Skincare Moisture Relaxing Mask obsahuje 23 zložiek, z toho 14 zložiek v kategórii s nízkym rizikom, 4 zložky v kategórii so stredným rizikom a 1 zložke by ste mali venovať zvýšenú pozornosť, obzvlášť ak je na začiatku zoznamu zložiek.

14
Nízke riziko
4
Stredné riziko
1
Vysoké riziko
4
Chýbajúce údaje
EWG
Názov zložky a funkcia
Pomáha
Komedogenita
Dráždivosť
water Rozpúšťadlá
hydrogenated c6-14 olefin polymers Regulátory viskozity, Zvláčňovače/Emolienty
glycerin Pleti identické zložky, Zvlhčovače/Humektanty
0
0
butylene glycol Regulátory viskozity, Rozpúšťadlá, Zvlhčovače/Humektanty
1
0
pentaerythrityl tetraoleate
xylitol Zvlhčovače/Humektanty
squalene Antioxidanty, Pleti identické zložky, Zvláčňovače/Emolienty
dimethicone Okluzanty/Udržiavače, Zvláčňovače/Emolienty
1
0
potassium carbomer Regulátory viskozity
phenoxyethanol Konzervačné zložky
fragrance Vonné zložky
polyvinyl alcohol Regulátory viskozity
methylparaben Konzervačné zložky
0
0
ethylparaben Konzervačné zložky
thymus vulgaris extract Vonné zložky
trisodium edta Chelatačné zložky
thiotaurine Antioxidanty
peg-5 soy sterol Emulgátory
sodium hyaluronate Pleti identické zložky, Zvlhčovače/Humektanty
nazov
0
0
lysolecithin Emulgátory
iron oxides Farbivá
0
0
+ Zobraziť celé zloženie


Zložky podľa typu pleti

Suchá pleť

Suchá pleť

4

Dobré pre suchú pleť glycerin, butylene glycol, squalene, sodium hyaluronate

0

Zlé pre suchú pleť

Citlivá pleť

Citlivá pleť

1

Dobré pre citlivú pleť sodium hyaluronate

1

Zlé pre citlivú pleť fragrance

Prehľad zložiek

Zaujímajte sa o kozmetiku ako profesionál! Ak ste zvedaví, čo môžete očakávať od produktu Shiseido The Skincare Moisture Relaxing Mask, prečítajte si prehľad zložiek, v ktorom nájdete informácie o tom, aké benefity môžete od neho očakávať.

Antioxidanty
bránia predčasnému starnutiu a zvyšujú odolnosť pleti

#7squalene

#19thiotaurine

Pleti identické zložky
prirodzene sa nachádzajú v pleti alebo napodobňujú správanie zložiek v pleti

#3glycerin

#7squalene

#21sodium hyaluronate

Chelatačné zložky
vychytáva z produktu ióny kovov a stabilizuje formulu

#17trisodium edta

Farbivá
dodávajú kozmetickým výrobkom farbu

#23iron oxides

Zvláčňovače/Emolienty
zmäkčujú a zvláčňujú pokožku

#2hydrogenated c6-14 olefin polymers

#7squalene

#8dimethicone

Emulgátory
pomáha nemiešateľným kvapalinám vytvoriť roztok

#20peg-5 soy sterol

#22lysolecithin

Zvlhčovače/Humektanty
zadržiavajú a uchovávajú vlhkosť v pokožke a vo vlasoch

#3glycerin

#4butylene glycol

#6xylitol

#21sodium hyaluronate

Vonné zložky
dodávajú produktu príjemnú vôňu

#11fragrance

#16thymus vulgaris extract

Konzervačné zložky
predlžujú trvanlivosť výrobku

#10phenoxyethanol

#13methylparaben

#14ethylparaben

Rozpúšťadlá
rozpúšťajú iné látky

#1water

#4butylene glycol

Regulátory viskozity
udržiavajú stabilitu zloženia, vzhľadu a textúry produktu

#2hydrogenated c6-14 olefin polymers

#4butylene glycol

#9potassium carbomer

#12polyvinyl alcohol

#15acrylates/c10-30 alkyl acrylate crosspolymer

Okluzanty/Udržiavače
udržiavajú vlahu v pokožke

#8dimethicone

Značka

Shiseido Japan

Kategória

Masky a exfoliácia

Objem

50 ml

Posledná aktualizácia: 04.06.2021
Nahlásiť chybu